PVD、TD

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①PVD

PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上形成具有特殊功能的薄膜的工艺方法。

PVD涂层特点

1.物理气相沉积方式,涂层种类多,应用广

2.温度低,工件不变形

3.耐腐蚀性能好

4.微米级别,不影响工件尺寸,精度高

5.红硬性好,耐高温

6.硬度高/HV3000-5000

②TD

TD覆层处理是热扩散法碳化物覆层处理(Thermal Diffision Carbide Coating Ptocess)的简称,英文简称TDcoating。其原理是将工件置于熔融硼砂混合物中,通过高温扩散作用于工件表面形成金属碳化物覆层,TD覆层处理碳化钒覆层是目前可以解决拉伤问题经济而有效的方法之一,并可以提高工模具或零部件寿命